Analysis novarum mensurarum per hiemem altilium sustentationem

Awdur: Iflowpower - Mofani oa Seteishene sa Motlakase se nkehang

Nova pugna sustentatio hiemis methodus pugnae sustentationis in hieme humilis est, et actio substantiarum activarum in pugna demissa est, et usus tardus est, et missio non potest esse, et efficacia missio deprimitur. Fere potestas pugnae circiter 40% cadet. Cum temperatus ambientium velit esse 5° C, missio potentiae tantum 50-60% temperaturae normalis esse potest (25° C).

Praeterea, pugna plus cyclos vel longiores utitur ut vim maiorem amittat. Pugna dicit conservationem filiae tempus bonum habere velle, pugna quoque communis est. Pugna decernit utrum opus nostrum ordinarie adhiberi possit, ergo regulariter pilam reprimendam debebis, in tempore repone, sustentationem.

Sententia est in industria: altilium capacitatis temperamentum 25° C, temperatura guttae 1°C, pilae capacitatis guttae per 1%. Cum altilium in ambitu temperatura humilis est, capacitas cycli humilis est, viscositas electronici augetur et resistentia chemicae augetur. Eodem incurrens tempore, summa cura in 5° C ambitu est tantum 70% in 25° C ambitu.

Pugna hiemem bonam conservat pugna, cura in batteries suggerens 1 . Reprehendo si arca exterioris laedatur. Si deformatio vel debilitas est, capsam aperi ad confirmandam utrum pila laedatur vel deformetur; reprehendo si pugna occurrat certum vexillum.

Cum in cellam ingrederis, clare indicas speciem, speciem, diem materiae advenientis, ut primatum finem procuratio provecta, productos ad longum tempus reponendi cognoscas. Pugna est in usu 1 . Communis intentione pilae est 3 .

3V-4.2V. In hoc ambitu pilae contineri oportet; antequam pilam increpans et discuteret, commendatur ut primum cuiusque altilium intentionem experiatur.

Intentionis altilium circiter 3.8V intra mensem 1 post partum, et differentia voltagenarum singulorum chippis intra 20mV est. Cum media altilium sarcina, pressionis altilium differentia 100mV vagatur; 2.

Maximus modus intentionis capax pilae est 4.2V, minimus modus intentionis est 3.0V.

Cum altilium intentione 4.2V vel minus quam 3.0V altior est, incurrens et missionis effectus ac salus pilae exsecutio laedi potest, inde in pugna caloris, lacus aeris, et airflant.

Praecaventur mensurae altilium sustentationis missionem: Dimissio temperaturae ambitus est 10 ~ 45° C, et maxima vena non excedere debet specificationem requisita. Pugna tumes, deformis, lacus vel voltage differentia <000000>ge;100mv missionem non patitur; missio inferioris termini intentionis non minus quam 3.2V debet, superficies pilae temperatura non altior quam 80 ° C post missionem altilium altae currentis.

Pugna ad gravidarum conservationem operam ceptaculum 1 . Intendite ut cellarium siccum, mundum, non refertum. Optimum est inter 0 spatium ponere.

5-0.8m; simul, oportet officium, horreum scipionis altae ignis praeventioni habere debet; horreum instructum esse oportet: ignis arena, asbesto, asbesto, caestus, , larva. 2.

In processu translationis, pugna etiam supplenda est et mensuras anti-concursus sumat. Praeventionis pugnae graviter impactae vel vibrationis est; si qua sunt notae abnormes pilae, ut pilae plasticae interclusio, testa exterior laeditur, electrolytici odorem habet, effluo liquidum electrolysis, non utere, altilium electrolytici scillam vel odorem electrolytici emittere vel longe ab igne fonte prohibere periculum est. Sustentationem pilae non facit 1 .

Non-professionales anatomiam pugnae non faciunt, alioquin breves internos circuitus causabit et salutem quaestiones ut gas, ignis efficiet. 2. In theoria non est in altilium lithium polymerus electrolyticus fluens, sed si electronicus effluat cutem, oculum vel alias corporis partes contactus, aqua statim lavabitur et statim eam praeparabit; III, altilium in aliquo casu non urere aut in ignem, alioquin pugna ardens causa, quod est periculosum, absolute prohibitum; non permittunt cellulas in liquida, ut aqua dulcis, aqua marina, potum (succus capulus, etc.

). Codex commonitorium: Pone altilium tua cum frigida est, sed etiam tibi operam da!.